vatvalve超高真空阀阀门

过程控制和隔离

真空和气体流的高精度控制和隔离在半导体制造中是至关重要的。在上游和下游过程中，所有的阀门功能必须保证在大量的循环中具有精确的重复性。其结果是：在规定的时间间隔内精确的体积流量和一致的、可靠的密封。VAT控制和隔离阀在此设定了标准。

用于半导体制造的控制和隔离的VAT真空阀组合总是根据特殊的要求而定制方案。根据不同的要求和应用领域，各个系列的性能参数和使用的阀门技术总是适应每个案例中客户的具体需求。其主要特点包括，可适应的打开和关闭周期，稳定的自适应密封，先进的控制器技术，可实现高精度的控制，防止颗粒的激活和释放，以及高制造质量，保证所制造的每个阀门都有确定的、稳定的性能参数。要了解更多关于VAT真空阀解决方案如何解决控制和隔离方面的挑战，请从下面列出的系列中选择。

vatvalve超高真空阀f阀门12136-JA03

2.1 全真空闸阀关键特点

特点:

设计可靠、成熟

避免产生颗粒的 VATLOCK 技术

机械锁定在关闭位置

优势:

性能可靠

分体式设计，易于清洁

购置成本低

技术数据

尺寸  DN 63 – 320 mm (2½" – 12")

驱动器气动 双作用

手动 带推杆

阀体材料  铝

进给机构  轴进给机构

标准法兰  ISO-F, JIS

泄漏率阀体 < 1 × 10-9 mbar ls-1

阀座 < 1 × 10-9 mbar ls-1

压力范围  1 × 10-10 mbar to 1.6 bar (绝对压强) (DN 63 – 200)

1 × 10-10 mbar to 1.2 bar (绝对压强) (DN 250 – 320)

阀板可承受压差阀板 ≤ 1.6 bar (DN 63 – 200)

≤ 1.2 bar (DN 250 – 320)

打开时 ≤ 30 mbar

维护前开关次数  20万次 (DN 63 – 100)

10万次 (DN 160 – 320)

温度阀体 ≤ 120 °C

手动和气动驱动器 ≤ 80 °C

电磁阀 ≤ 50 °C

位置指示器 ≤ 80 °C

加热和冷却速率  ≤ 30 °C h-1

材质阀体 EN AW-5083 (3.3547,

EN AW-6061 (3.3211) (DN 63 – 100)

EN AC-42100 (3.2371) (DN 160 – 320)

机构 AISI 304 (1.4301) (DN 63 – 100)

EN AW-6082 (3.2315) (DN 160 – 320)

密封阀帽、阀板 氟橡胶（例如 Viton®）

安装位置  任何位置

电磁阀  24 VDC，5.4 W（可根据要求提供其他值）

位置指示器：触点额定值电压 ≤ 250 VAC ≤ 50 VDC

电流 ≤ 2 A ≤ 1.2 A

阀门位置指示  视觉（机械）

10.8

1 × 10-10mbar 至 1.2 bar (abs)

超高真空闸阀

超高真空隔离的标准

12.1

1 × 10-7mbar 至 1.6 bar (abs)

全真空闸阀

真空隔离标准

26.4

1 × 10-8mbar 至 2 bar (abs)

高真空角阀

出色的可靠性

61.3

1 × 10-8mbar 至 1.2 bar (abs)

蝶形控制阀

快速且精准的下游压力控制

61.6

1 × 10-8mbar 至 1.2 bar (abs)

高真空蝶形控制和隔离阀

快速且精准的下游压力控制和隔离

62.0

1 × 10-8mbar 至 1.4 bar (abs)

角控制阀

高压高温解决方案

64.2

DN 100 - 400

高真空控制闸阀

适用于高循环真空控制和隔离

64.8

1 × 10-10mbar 至 1.6 bar (abs)

超高真空控制闸阀

适用于标准真空控制和隔离

65.3

1 × 10-8mbar 至 1 bar (abs)

控压摆阀

可优化半导体与显示器系统中的下游压力控制和隔离

65.5

1 × 10-6mbar 至 1.2 bar (abs)

高真空控制摆阀

高过程压力、低流量腐蚀性蚀刻应用的理想之选

67.0

1 × 10-6mbar 至 1.2 bar (abs)

对称控制阀

流量优化压力控制

95.3

DN 25 –DN 50

高真空控制和隔离阀组合单元

体积小巧，性能出众