vatvalve半导体65.3 控压摆阀65340-JAAH 65.3 控压摆阀的尺寸为 DN 100-350 mm (4“ - 14“)，采用铝或硬质阳极氧化铝制成，带有 ISO-F 和 JIS 标准法兰连接。可集成定制法兰，也可作为直接安装选项。标准密封材料为氟橡胶，并且可根据要求使用其他材料。控制器可采用特殊控制算法（自适应、固定 PID、上游、软抽）。控制器上的各种标准端口可通过个人计算

vatvalve控压摆阀65340-JAAF 65.3 控压摆阀已经安装在数百个各种工艺条件下的要求苛刻的应用中，证明了其可靠性和性能。65.3控压摆阀还是改造现有系统的理想之选。 65.3 控压摆阀的尺寸为 DN 100-350 mm (4“ - 14“)，采用铝或硬质阳极氧化铝制成，带有 ISO-F 和 JIS 标准法兰连接。可集成定制法兰，也可作为直接安装选项。标准密封材料为氟橡胶，并且可

vatvalve瑞士进口65.3 控压摆阀65340-JAAE 可优化半导体与显示器系统中的下游压力控制和隔离 最大限度地提高生产率 65.3 控压摆阀设定了下游压力控制和隔离的新标准。该系列控压摆阀专为半导体和显示器生产系统而设计，可在较宽的流导范围内提供可控性。65.3 控压摆阀配备带有集成位置控制的电机，可提供改进功能。

vatvalve高真空控制闸阀半导体专用64240-UEAG 64.2 高真空控制闸阀采用 VATLOCK 技术，可提供可靠的密封，同时不会在阀板密封处产生任何摩擦。阀板可充当节流元件，改变阀门开度的流导特性。设备上压力控制器可计算所需的阀板位置以达到规定的设定点压力。步进电机进行驱动，同时编码器监控阀板位置。这样可确保快速准确地控制过程压力。位于关闭位置的专用 VATLOCK 锁定机制能够确保在

vatvalve高真空控制闸阀瑞士进口64240-PEAG 适用于高循环真空控制和隔离 64.2 高真空控制闸阀设计用于在溅射或蚀刻工艺等高循环真空工艺中进行可靠精确的控制和隔离。该系列满足耐用性、模块性和可维护性的标准要求，并且特别注重长正常运行时间和低购置成本。

vatvalve高真空控制闸阀64240-CEHG 适用于高循环真空控制和隔离 高真空控制闸阀设计用于在溅射或蚀刻工艺等高循环真空工艺中进行可靠精确的控制和隔离

vatvalve高真空角阀26420-KE01 角阀的关键性能指标是可靠性与可变性。26.4 高真空角阀系列兼具可靠性和可变性。

vatvalve超高真空阀阀门12136-JA03 真空和气体流的高精度控制和隔离在半导体制造中是至关重要的。

vatvalve楔形高真空闸阀09134-KE14 采用楔形设计的高真空闸阀已经安装在数千个各种工艺条件下的要求苛刻的应用中，证明了其可靠性。特别是在次金圆厂应用中，它已经成为真空泵隔离的标准解决方案。该闸阀拥有多种设计选项，可以轻易集成到任何应用中。

vatvalve采用楔形设计的高真空闸阀09134-KE08 由于楔形设计，此高真空闸阀具有自清洁功能 阀门可在压差高达 1 bar 时开启 适用于广泛应用的灵活配置选项